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用于集成电路的溅射靶材是一种被普遍运用于半导体芯片制造不可或缺的质料，可用于前段的制程例如制造闸极元件、栅极、金属层及金属互联等，以及后段键合。
高纯金属溅射靶材可由种种金属及金属合金制得，种类繁多，适用于通过物理气相沉积（PVD）天生多层功效性薄膜，知足半导体手艺小体积和多功效集成生长趋势的需求。
pg电子电科是PVD蒸发和溅射质料的专业制造商。我们自主接纳和加工原质料， 通过成熟的提纯、熔化、铸造、锻轧和绑定等工艺，直接控制有可能对PVD工艺爆发影响的因素，确保质料纯度、晶粒尺寸、匀称性等切合PVD工艺的要求。
pg电子电科拥有专业的国际化研发和应用手艺支持团队，资助pg电子客户刷新产品和工艺，同时配合研发探索新的工艺和产品，pg电子应用实验室可以为客户提供质料剖析和靶材测试。
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